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ossila紫外臭氧清洗機(jī)的介紹

日期：2025-07-07 13:31
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摘要：
 
       ossila紫外臭氧清洗機(jī)的紫外光表面清洗技術(shù)在國(guó)際上是隨著光電子信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展而提出來(lái)的。
       七十年代中期美國(guó)**電子技術(shù)和器件實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用紫外光照射清洗石英晶片取得滿意的效果。但是，美國(guó)在較長(zhǎng)的時(shí)間里紫外光表面清洗技術(shù)主要在**領(lǐng)域中進(jìn)行研究性應(yīng)用。直到九十年代初，日本和美國(guó)先后將UV光清洗機(jī)應(yīng)用于民用光電子產(chǎn)品的工業(yè)生產(chǎn)過(guò)程，并開(kāi)始向我國(guó)個(gè)別外資LCD企業(yè)在要求技術(shù)保密的情況下提供UV光清洗機(jī)。隨后，日本在發(fā)展紫外光表面清洗技術(shù)的同時(shí)，紫外光表面改質(zhì)技術(shù)也得到了發(fā)展。在二十世紀(jì)末，日本等先進(jìn)工業(yè)國(guó)家紫外光表面清洗和改質(zhì)技術(shù)由信息產(chǎn)業(yè)逐步擴(kuò)展到金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產(chǎn)過(guò)程。二十世紀(jì)九十年代后期，我國(guó)的信息技術(shù)和產(chǎn)業(yè)以驚人的速度飛速發(fā)展，特別是平板顯示技術(shù)的高速發(fā)展，LCD顯示屏由TN級(jí)向STN和TFT不斷提升，新型的OLED顯示產(chǎn)品也開(kāi)始進(jìn)入市場(chǎng)。由此，對(duì)制備工藝過(guò)程表面質(zhì)量要求越來(lái)越嚴(yán)格，紫外光表面清洗技術(shù)的優(yōu)越性已經(jīng)得到廣泛認(rèn)可，紫外臭氧清洗機(jī)的需求量正在不斷增長(zhǎng)。