濺射系統(tǒng)

樣品室大小

直徑120mm x 120mm 高

靶材

標(biāo)配黃金Au靶，Pt等其它靶材可選

大?。褐睆?/span>57mm x 0.1mm厚

樣品臺(tái)

可以裝載12個(gè)SEM樣品座，高度可調(diào)范圍為50mm

濺射控制

微處理器控制，**互鎖

濺射電流

5~45mA可調(diào)

濺射頭

低電壓平面磁控管，靶材更換快速，環(huán)繞暗區(qū)護(hù)罩

計(jì)量表

真空： Atm - 0.001mbar，電流：0~50mA

厚度監(jiān)控
  (選件)

使用MTM-10高分辨厚度監(jiān)控儀（選件）**測(cè)定所鍍膜的厚度

控制方法

具有氣體換氣和泄氣功能，帶有“暫停”控制的數(shù)字定時(shí)器（5－300s）

真空系統(tǒng)

真空泵

2級(jí)直連式高速真空泵

抽氣速率

3.0 m3/小時(shí) ，真空度到 0.1mb所需時(shí)間30秒.

極限真空

5 x 10^-3mba

桌上系統(tǒng)

真空泵可置于抗震臺(tái)上，全金屬集成耦合系統(tǒng)